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              气相沉积和蚀刻工艺

               日期:2022-02-25

              针对特定业务需求的定制设计每个企业都是不同的。我们知道,某些行业对其产品有特殊要求。这就是为什么我们可以轻松获得适合您的解决方案。

              所有产品都是按订单生产的,我们的定制设计服务可帮助您的企业获得所需的一切。我们甚至会从头开始制作一些东西来匹配您的特定项目和生产目标。告诉我们您的要求,我们将为您量身定制报价。


              应用 

              半导体、平板显示屏、LED 以及光伏产品制造商使用的几种生产工艺都涉及气体的输送和排出。需要加热气体输送工艺有蚀刻工艺和沉积工艺。在化学气相沉积工艺 (CVD) 中,如果未适当加热,生成物积聚在输送系统两侧。一般要加热至 100°C 到 200°C(212°F 至 392°F)之间,具体取决于工艺和使用的气体。 一种称为原子层沉积 (ALD) 的特定 CVD 使用固体含量更高的前驱物,这种生成物需要加热至高达 300°C (572°F) 以便保持汽态,从而进行流量测量和输送。所有工艺腔体或容器都需要精确的温度控制,确保管道流畅,便于输送和加工。如果无法保持所需温度,将会形成冷凝,具体取决于每种生成物相变曲线。 在生产中使用后,气体通过前级管道从工艺腔体流动到真空泵,然后通过排出管道进入减排系统,最后燃烧或者收集到水中。如果在输送和加工过程中,气体未经加热或适当保温,沉积速率可能受到负面影响,因而影响到产品质量。 

              蚀刻和沉积工艺的所有阶段出现冷凝都会导致代价高昂的停产和高昂的维护费用。


              解决方案

              使用加热套加热输送、排放和前级管道系统。包括管道、阀门、法兰和杆体系的系统中,加热护套可为所有部件提供精准、均匀的加热。通过对所有部件进行加热,热区和冷区有所减少,因而预防性保养周期之间的间隔显著延长。这些加热器可连接成为系统,通过模块化PID温度控制器对每个加热器进行单独控制,最大限度地提高了效率和性能。加热套配备内置隔热层,实现最高热效率。此外,这些加热套便于装卸,适合在无尘室环境使用,符合SEMIS2可安全触摸标准,而且其中不含硅,因而消除了有害的排气风险。

              模块化温度控制器系统,为系统内的每个加热器提供单独的 PID 温度控制器。 每个加热护套都内置高精度 100 Ω 铂热电阻或热电偶传感器,并与护套内部的模块连接。 触摸屏界面可以实时显示每个加热护套的性能(最多 1,024 个区域)并且具备数据记录功能。 用户可以通过大型全彩色触摸屏、醒目的加热器状态指示灯、远程监控或电子邮件提醒了解每个加热器的性能状态。


              数据表


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              致电 13964769687

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